(一)離子束加工原理及特點
    離子束加工的原理與電子束加工基本類似，加工中心也是在真空條件下，將離子源產生的離子束經過加速后，撞擊在工件表面上，引起材料變形、破壞和分離。由于離子帶正電荷，其質量是電子的千萬倍，搖臂鉆床因此離子束加工主要靠高速離子束的微觀機械撞擊動能，而不是像電子束加工主要靠熱效應。惰性氣體氬氣由入口注入電離室。灼熱的燈絲發射電子，電子在陽極的吸引和電磁線圈的偏轉作用下，向下高速作螺旋運動。氬在高速電子的撞擊下被電離成離子。陽極和陰極各有數百個上下位置對齊、直徑為0．3mm的小孔，形成數百條較準直的離子束，均勻分布在直徑為50mm的圓面積上。通過調整加速電壓，可以得到不同速度的離子束，以實現不同的加工。
    離子束轟擊工件的材料時，其束流密度和能量可加工中心以精確控制，因此可以實現毫微米即納米級(0.0011xm)的加工，是當代搖臂鉆床毫微米加工技術的基礎；離子束加工在真空中進行，污染少，特別適宜加工易氧化的金屬、合金、高純度的半導體材料；離子束加工的宏觀壓力小，因此加工應力小，熱變形小，加工表面質量非常高；離子束加工設備費用高、成本高、加工效率低，其應用范圍受到一定限制。
    (二)離子柬加工的應用范圍
    1.離子刻蝕
    它是由能量為0.5～5kev、直徑為十分之幾納米的氬離子轟擊工件，將工件表層的原子逐個剝離的。這種加工本質上屬于一種原子尺度上的切削加工，所以也稱為離子銑削。這就是近代發展搖臂鉆床起來的毫微米加工工藝。
    2。離子濺射沉積
    離子濺射沉積本質上是一種鍍膜加工。加工中心它也是采用0.5—5kev氬離子轟擊靶材，并將靶材上的原子擊出，淀積在靶材附近的工件上，使工件表面鍍上一層薄膜。
    3．離子鍍膜
    離子鍍膜也稱離子濺射輔助沉積，搖臂鉆床同樣屬于一種鍍膜加工。它將0.5-5kev的氬離子分成兩束，同時轟擊靶材和工件表面，以增強膜材與工件基材之間的結合力。也加工中心可將靶材高溫蒸發，同時進行離子鍍。  
    4．離子注入
    離子注入時是采用5—500kev能量的離子束，直接轟擊被工材料。在如此大的能量驅動下，離子能夠鉆人材料表層，從而達到改變材料化學成分的目的。可以根據不同的目的選用不同的注入離子，如磷、硼、碳、氮等，搖臂鉆床以實現材料的表面改性處理，從而改變工件表面層的機械物理加工中心性能。