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美國 KRI 射頻離子源 RFICP 220

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KRI 射頻離子源 RFICP 220產品描述

上海伯東代理美國考夫曼博士設立的考夫曼公司 KRI 射頻離子源 RFICP 220, 大面積高能量柵極離子源.

離子束流: >800 mA; 離子動能: 100-1200 V; 中和器: LFN 2000; 流量(Typical flow): 10-40 sccm; 壓力: < 0.5m Torr

離子束可聚焦, 平行, 散射.

采用射頻技術產生離子, 無需電離燈絲, 工藝時間更長.

通入氣體可選 Ar, Kr, Xe, O2, N2, H2, others.

美國 KRI 射頻離子源 RFICP 220 技術參數:

伯東 KRI 射頻離子源 RFICP 220 技術參數:

離子源型號

RFICP 220

Discharge

RFICP 射頻

離子束流

>800 mA

離子動能

100-1200 V

柵極直徑

20 cm Φ

離子束

聚焦, 平行, 散射

流量

10-40 sccm

通氣

Ar, Kr, Xe, O2, N2, H2, 其他

典型壓力

< 0.5m Torr

長度

30 cm

直徑

41 cm

中和器

LFN 2000

* 可選: 燈絲中和器; 可變長度的增量

美國 KRI 射頻離子源 RFICP 220 應用領域:

伯東 KRI 射頻離子源 RFICP 220 應用領域:

1. 預清洗

2. 表面改性

3. 輔助鍍膜(光學鍍膜)IBAD,

4. 濺鍍和蒸發鍍膜 PC

5. 離子濺射沉積和多層結構 IBSD

6. 離子蝕刻 IBE

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