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美國 KRI 射頻離子源 RFICP 140

價格:面議瀏覽:252次聯系:張婷婷 / 15021001340 / 0755-25473928企業:伯東貿易(深圳)有限公司留言店鋪收藏

KRI 射頻離子源 RFICP 140產品描述

上海伯東代理美國考夫曼博士設立的考夫曼公司 KRI 射頻離子源 RFICP 140 是一款緊湊的有柵極離子源, 離子束可聚焦, 平行, 散射.

離子束流: >600 mA; 離子動能: 100-1200 V; 中和器: LFN 2000. 

采用射頻技術產生離子, 無需電離燈絲, 工藝時間更長, 更適合時間長的工藝要求. 提供高密度離子束, 滿足高工藝需求.

離子源采用模塊化設計, 方便清潔/ 保養/ 維修/ 安裝.

非常適用于離子束濺射沉積, 離子輔助沉積和離子束刻蝕工藝.

美國 KRI 射頻離子源 RFICP 140 技術參數:

伯東 KRI 射頻離子源 RFICP 140 技術參數:

型號

RFICP 140

Discharge

RFICP 射頻

離子束流

>600 mA

離子動能

100-1200 V

柵極直徑

14 cm Φ

離子束

聚焦, 平行, 散射

流量

5-30 sccm

通氣

Ar, Kr, Xe, O2, N2, H2, 其他

典型壓力

< 0.5m Torr

長度

24.6 cm

直徑

24.6 cm

中和器

LFN 2000

美國 KRI 射頻離子源 RFICP 140 應用領域:

伯東KRI 考夫曼離子源 RFICP 140 應用領域:

1.預清洗

2.表面改性

3.輔助鍍膜(光學鍍膜)IBAD,

4.濺鍍和蒸發鍍膜 PC

5.離子濺射沉積和多層結構 IBSD

6.離子蝕刻 IBE

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