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某 OEM 系統集成商在搭建系統-復合磁控濺射沉積裝置, 采用伯東 KRI 考夫曼射頻離子源 RFICP380 作為濺射源.
KRI 射頻離子源 RFICP380 技術參數:
射頻離子源型號 | RFICP380 |
Discharge 陽極 | 射頻 RFICP |
離子束流 | >1500 mA |
離子動能 | 100-1200 V |
柵極直徑 | 30 cm Φ |
離子束 | 聚焦, 平行, 散射 |
流量 | 15-50 sccm |
通氣 | Ar, Kr, Xe, O2, N2, H2, 其他 |
典型壓力 | < 0.5m Torr |
長度 | 39 cm |
直徑 | 59 cm |
中和器 | LFN 2000 |
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該復合磁控濺射沉積裝置主要包含：
1. 濺射源-KRI 考夫曼射頻離子源 RFICP380
2. 清洗源-KRI 霍爾離子源 eH3000
3. 高功率脈沖磁控濺射電源
4. 真空泵- Pfeiffer 分子泵 HiPace700
5. 基臺
KRI 離子源的獨特功能實現了更好的性能, 增強的可靠性和新穎的材料工藝. KRI 離子源已經獲得了理想的薄膜和表面特性, 而這些特性在不使用 KRI 離子源技術的情況下是無法實現的.
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