渦輪分子泵組應用于脈沖激光沉積系統 PLD
脈沖激光沉積系統 PLD 可用來制備金屬和各種物質薄膜, 甚至還用來制備一些難以合成的材料膜. 為了提高 PLD 系統的真空度和加快抽空時間, 經過伯東推薦選用分子泵 分子泵組串聯組合的形式來提高系統的真空度. 更快達到其使用要求.
渦輪分子泵組應用于脈沖激光沉積系統 PLD 客戶案例一: 上海伯東某客戶選用美國相干 Coherent 公司出產的 COMPexPro205 型 KrF 激光器, 用于原位生長不同材料的多層薄膜. 通過伯東推薦采購 2臺渦輪分子泵組 Hicube 80 Eco

渦輪分子泵組應用于脈沖激光沉積系統 PLD 客戶案例二: 某大學采購鎧柏科技 Adnano PLD 系統, 使用伯東 Pfeiffer 分子泵和渦輪分子泵組.

上海伯東德國 Pfeiffer HiCube 80 便攜式分子泵組, 可以提供原有的真空度水平至半個數量級或加快抽空時間！
上海伯東 Pfeiffer 分子泵組 HiCube Eco 技術規格

Pfeiffer 渦輪分子泵組整體模塊化設計, 內部集成前級泵和分子泵, "即插即用", 抽速范圍 35 至 685 L/S, 極限真空 5X10-10 hPa, 提供經濟型分子泵組 ECO, 標準型分子泵組 Classic 和高性能渦輪分子泵組 Pro 滿足不同應用, 推薦搭配 Pfeiffer 真空計共同使用.

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