某傳感器制造商為了制備出具有高結晶度、大比表面積、排列規(guī)則的納米結構 WO3 薄膜, 經過對比選擇, 采用  KRI 考夫曼射頻離子源 RFICP380  輔助磁控濺射沉積設備鍍制 WO3 薄膜.

KRI 射頻離子源 RFICP380 技術參數(shù):

氣體傳感器可以將被檢測氣體的種類、濃度等信息轉變?yōu)榭蓽y信號, 并將計算機與被檢測到的信號連接口相連接, 構成自動的監(jiān)控、檢測和報警系統(tǒng). 氧化鎢薄膜可以吸附各種氣體, 從而導致薄膜的電阻或光學參數(shù)的變化, 常常應用于氣體傳感器領域.

KRI 離子源的獨特功能實現(xiàn)了更好的性能, 增強的可靠性和新穎的材料工藝. KRI 離子源已經獲得了理想的薄膜和表面特性, 而這些特性在不使用 KRI 離子源技術的情況下是無法實現(xiàn)的.

若您需要進一步的了解詳細信息或討論,  請參考以下聯(lián)絡方式:

上海伯東: 羅先生                               臺灣伯東: 王女士
T: 86-21-5046-1322                   T: 886-3-567-9508 ext 161
F: 86-21-5046-1490                        F: 886-3-567-0049
M: 86 152-0195-1076                     M: 886-939-653-958
www.hakuto-china.cn                    www.hakuto-vacuum.com.tw

伯東版權所有,  翻拷必究!