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KRI 考夫曼射頻離子源 RFICP380 鍍制氣體傳感器 WO3 薄膜

價格:面議瀏覽:193次聯系:張婷婷 / 15021001340 / 0755-25473928企業:伯東貿易(深圳)有限公司留言店鋪收藏

某傳感器制造商為了制備出具有高結晶度、大比表面積、排列規則的納米結構 WO3 薄膜, 經過對比選擇, 采用  KRI 考夫曼射頻離子源 RFICP380  輔助磁控濺射沉積設備鍍制 WO3 薄膜.

 

KRI 射頻離子源 RFICP380 技術參數:

射頻離子源型號

RFICP380

Discharge 陽極

射頻 RFICP

離子束流

>1500 mA

離子動能

100-1200 V

柵極直徑

30 cm Φ

離子束

聚焦, 平行, 散射

流量

15-50 sccm

通氣

Ar, Kr, Xe, O2, N2, H2, 其他

典型壓力

< 0.5m Torr

長度

39 cm

直徑

59 cm

中和器

LFN 2000

 

 

氣體傳感器可以將被檢測氣體的種類、濃度等信息轉變為可測信號, 并將計算機與被檢測到的信號連接口相連接, 構成自動的監控、檢測和報警系統. 氧化鎢薄膜可以吸附各種氣體, 從而導致薄膜的電阻或光學參數的變化, 常常應用于氣體傳感器領域.

 

KRI 離子源的獨特功能實現了更好的性能, 增強的可靠性和新穎的材料工藝. KRI 離子源已經獲得了理想的薄膜和表面特性, 而這些特性在不使用 KRI 離子源技術的情況下是無法實現的.

 

若您需要進一步的了解詳細信息或討論,  請參考以下聯絡方式:

上海伯東: 羅先生                               臺灣伯東: 王女士
T: 86-21-5046-1322                   T: 886-3-567-9508 ext 161
F: 86-21-5046-1490                        F: 886-3-567-0049
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