某光學薄膜制造商為了提高光學太陽反射鏡OSR的膜層附著力, 采用伯東 KRI 考夫曼射頻離子源 RFICP140 在鍍膜前清洗光學太陽反射鏡OSR.

 

伯東 KRI考夫曼射頻離子源 RFICP140 技術參數:

型號	RFICP 140
Discharge	RFICP 射頻
離子束流	>600 mA
離子動能	100-1200 V
柵極直徑	14 cm Φ
離子束	聚焦, 平行, 散射
流量	5-30 sccm
通氣	Ar, Kr, Xe, O2, N2, H2, 其他
典型壓力	< 0.5m Torr
長度	24.6 cm
直徑	24.6 cm
中和器	LFN 2000

 

推薦使用 KRI考夫曼射頻離子源 RFICP140是因為其束流密度、能量可以精確控制, 工藝剛好符合客戶要求.

 

其工藝流程為:

在原有的真空鍍膜機上安裝一臺KRI考夫曼射頻離子源 RFICP140, 產生離子束. 離子束清洗應用在鍍膜沉積前, 利用離子束轟擊基片, 濺射基片表面的污染物進行凈化, 同時也對基片表面除氣.

 

先將清洗干凈的石英玻璃基片放入真空室,再將系統(tǒng)的真空度抽至低于 5?10-4Pa, 然后充入工作氣體氬氣保持 5min 后, 打開離子源進行清洗. 清洗完畢后再次將系統(tǒng)的真空度抽至低于 5?10-4Pa,充入氬氣至 0.3Pa 進行濺射鍍銀.

 

為了保證真空室的真空度, 客戶采用的是伯東Pfeiffer 渦輪分子泵 HiPace1800, 其參數如下：

分子泵型號	界面 DN		抽速 l/s			壓縮比	最高啟動壓強mbar	極限壓力	全轉速氣體流量hPa l/s	啟動 時間	重量
	進氣	排氣	氮氣 N2	氦氣He	氫氣 H2	氮氣 N2	氮氣N2	hPa	氮氣N2	min	kg
Hipace 1800	200	40	1,450	1,650	1,700	> 1X108	1.8	< 1X10–7	20	4	33 – 34

 

運行結果:

KRI考夫曼射頻離子源 RFICP140可以對基片表面進行有效的清潔、活化的, 有利于改善膜層附著力

 

 

伯東是德國 Pfeiffer 真空泵, 檢漏儀, 質譜儀, 真空計, 美國 KRI 考夫曼離子源, 美國HVA 真空閥門, 美國 inTEST 高低溫沖擊測試機, 美國 Ambrell 感應加熱設備和日本 NS 離子蝕刻機等進口知名品牌的指定代理商.

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