使用平面磁控濺射陰極進行反應性濺射時的”靶中毒”和”陽極消失”, 這兩問題一直是玻璃鍍膜行業(yè)的難題.

 

某國內(nèi)玻璃制造商采用 KRI 考夫曼平行型射頻離子源 RFICP380 離子清洗技術清除沉積在靶面和陽極表面的反應產(chǎn)物, 如氧化物, 從而保持靶和陽極表面導電性, 避免發(fā)生”靶中毒”和”陽極消失”現(xiàn)象.

伯東 KRI 射頻離子源 RFICP 380 技術參數(shù)：

射頻離子源型號	RFICP 380
Discharge 陽極	射頻 RFICP
離子束流	>1500 mA
離子動能	100-1200 V
柵極直徑	30 cm Φ
離子束	聚焦, 平行, 散射
流量	15-50 sccm
通氣	Ar, Kr, Xe, O2, N2, H2, 其他
典型壓力	< 0.5m Torr
長度	39 cm
直徑	59 cm
中和器	LFN 2000

 

推薦理由：

1. 使用 KRI 考夫曼平行型射頻離子源 RFICP 380 可以準確、靈活地對樣品選定的區(qū)域進行清洗

2. 功率大, 離子束流高, 滿足客戶工藝要求

3. 清洗速率快

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工作原理:

在真空室充入 100sccm 的氬氣, 利用 KRI 考夫曼平行型射頻離子源 RFICP380 把氬氣電離, 形成離子體, 利用氬離子撞擊靶面, 從靶面上撞出錫原子或氧化錫分子, 完成對錫靶的清潔. 撞擊出來的錫原子撞擊陽極表面, 清除吸附陽極表面與表層銦結(jié)合力不強的部分氧化錫分子, 完成對陽極表面的清洗.

其清洗實施工作圖如下:

 

一次清洗大約用時15s, 前5秒主要清潔靶面, 后10秒清潔陽極表面.

 

運行結(jié)果：

有效的清潔陰極靶面和陽極表面, 保持陰極靶面和陽極表面良好的導電性, 避免發(fā)生”靶中毒”和”陽極消失”現(xiàn)象

 

伯東是德國 Pfeiffer 真空泵, 檢漏儀, 質(zhì)譜儀, 真空計, 美國 KRI 考夫曼離子源, 美國HVA 真空閥門, 美國 inTEST 高低溫沖擊測試機, 美國 Ambrell 感應加熱設備和日本 NS 離子蝕刻機等進口知名品牌的指定代理商.

 

 

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