國(guó)內(nèi)某制造商在鈦合金表面制備一層類金剛石薄膜 DLC, 以期改善鈦合金表面摩擦學(xué)性能, 為了獲得均勻且致密的類金剛石薄膜, 采用伯東 KRI 聚焦型射頻離子源 RFICP 380 制備類金剛石薄膜.

伯東 KRI 聚焦型射頻離子源 RFICP 380 技術(shù)參數(shù):

射頻離子源型號(hào)	RFICP 380
Discharge 陽極	射頻 RFICP
離子束流	>1500 mA
離子動(dòng)能	100-1200 V
柵極直徑	30 cm Φ
離子束	聚焦
流量	15-50 sccm
通氣	Ar, Kr, Xe, O2, N2, H2, 其他
典型壓力	< 0.5m Torr
長(zhǎng)度	39 cm
直徑	59 cm
中和器	LFN 2000

 

推薦理由:

使用 KRI 聚焦型射頻離子源 RFICP 380可以準(zhǔn)確、靈活地對(duì)樣品選定的區(qū)域進(jìn)行沉積和刻蝕.

 

運(yùn)行結(jié)果:

1. 沉積的類金剛石薄膜厚度約為 1.0 μm, 薄膜均勻且致密, 表面粗糙度Ra為13.23nm

2. 類金剛石薄膜與基體結(jié)合力的臨界載荷達(dá)到31.0N

3. DLC薄膜具有良好的減摩性, 摩擦系數(shù)為0.15, 耐磨性能得到提高

 

伯東是德國(guó) Pfeiffer 真空泵, 檢漏儀, 質(zhì)譜儀, 真空計(jì), 美國(guó) KRI 考夫曼離子源, 美國(guó)HVA 真空閥門, 美國(guó) inTEST 高低溫沖擊測(cè)試機(jī), 美國(guó) Ambrell 感應(yīng)加熱設(shè)備和日本 NS 離子蝕刻機(jī)等進(jìn)口知名品牌的指定代理商.

 

 

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