氦質譜檢漏儀 MPCVD 檢漏, 實現(xiàn)金剛石膜制備
微波等離子體化學氣相沉積法 Microwave Plasma CVD (MPCVD) 是目前國際上被用于金剛石膜制備的公認方法. MPCVD 裝置將微波發(fā)生器產生的微波經波導傳輸系統(tǒng)進入反應器, 并通入甲烷與氫氣的混合氣體, 在微波的激發(fā)下, 在反應室內產生輝光放電, 使反應氣體的分子離化, 產生等離子體, 在基板臺上沉積得到金剛石膜. 上海伯東某客戶投資數(shù)億元采購 MPCVD 長晶設備用于人造金剛石的生產, 預計年產量超萬片.
MPCVD 需要檢漏: 在使用 MPCVD 設備進行金剛石合成的過程中, 如果設備有泄漏的情況, 將會使合成的金剛石中摻有雜質, 影響金剛石的品質, 一般漏率要求 1E-9 mbar l/s. 需要快速的對設備進行定量定位的泄露檢測, 傳統(tǒng)檢漏方式無法滿足.
上海伯東 MPCVD 設備檢漏客戶案例: 為了解決這一問題, 上海伯東推薦客戶采購氦質譜檢漏儀 ASM 340, 利用真空法對 MPCVD 進行檢漏, 漏率設置 1E-9 mbar l/s.
1. 將設備通過波紋軟管連接檢漏儀 ASM 340, 確認連接完畢
2. 啟動 ASM 340, 進入待機界面; 初次啟動時間大約 3min, 以后啟動 < 1min
3. 按下開始鍵, 先通過 bypass 閥門啟動干式真空泵 ACP 28 抽真空, 到達一定壓力檢漏儀 ASM 340 開始工作, 同時在設備懷疑有漏的地方噴氦氣  (腔體, 焊縫, 連接處); 若有漏, 檢漏儀馬上報警, 顯示該噴射點有漏.
4. 檢測完畢, 按下檢漏儀待機鍵, 放氣, 關閉電源, 移除連接管路.
氦質譜檢漏儀 ASM 340 與傳統(tǒng)泡沫檢漏和壓差檢漏對比, 在提供無損檢漏的同時可以檢測出更小的漏率 5E-13 Pa m3/s, 利用氦氣作為示蹤氣體可定位, 定量漏點.

結合了 Pfeiffer 與 Adixen 兩家檢漏儀的技術優(yōu)勢, 上海伯東德國 Pfeiffer 推出全系列新型號氦質譜檢漏儀, 從便攜式檢漏儀到工作臺式檢漏儀滿足各種不同的應用. 氦質譜檢漏儀替代傳統(tǒng)泡沫檢漏和壓差檢漏, 利用氦氣作為示蹤氣體可定位, 定量漏點. 氦質譜檢漏儀滿足單機檢漏, 也可集成在檢漏系統(tǒng)或 PLC. 推薦氦質譜檢漏儀應用 >>

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