光的干涉在薄膜光學中應用廣泛. 光學薄膜技術的普遍方法是借助真空濺射的方式在玻璃基板上涂鍍薄膜. 光學鍍膜是光學器件上的單個或多個材料沉積薄層, 實現多樣功能, 典型應用例如在鏡片鍍膜中, 為了消除光學零件表面的反射損失, 提高成像質量, 涂鍍一層或多層透明介質膜, 稱為增透膜或減反射膜. 薄膜沉積在新型特殊性能材料的開發和研究中起到重要作用.
光學鍍膜是如何工作的？
待鍍膜工件裝入鍍膜室, 其內將執行噴濺工藝流程. 通常是兩個離子源, 一個濺射沉積源, 一個預清潔和輔助沉積源. 離子源在真空環境中產生離子束, 離子束轟擊濺射目標, 濺射的原子(分子)沉積在襯底上形成薄膜, 從而將薄膜加鍍到工件上. 此處所需的典型真空壓力一般小于 1x10-4 hPa. 清潔無碳真空環境和高穩定的離子束流是實現精確的高質量的薄膜關鍵.

光學鍍膜中離子源作用
通過使用上海伯東美國 KRi 離子源可實現基板清潔和加速鍍膜材料的濺射速度, 并且離子源在材料沉積過程中可幫助沉積并使沉積后的薄膜更為致密, 膜基附著力更好,  膜層不易脫落. 其中射頻離子源提供高能量, 低濃度的離子束, 離子源單次工藝時間更長, 適合多層膜的制備和離子濺鍍鍍膜工藝. 上海伯東是美國 KRi 離子源中國總代理.

上海伯東 KRi 射頻離子源 RFICP 參數:

光學鍍膜中真空系統
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